[월요신문=편슬기 기자] SK하이닉스가 고방열 모바일 D램 제품의 공급을 시작했다. 열에 강한 D램 제품을 통해 발열을 잡아, 스마트폰 성능을 저하를 방지할 수 있을 전망이다.
SK하이닉스가 업계 최초로 ‘High-K EMC’ 소재를 적용한 고방열 모바일 D램 제품을 개발해 고객사들에 공급을 개시했다고 28일 밝혔다.
EMC(Epoxy Molding Compound란 수분, 열, 충격, 전하 등 다양한 외부 환경으로부터 반도체를 밀봉해 보호하는 동시에 열을 방출하는 통로 역할도 하는 반도체 후공정 필수 재료를 말한다.
SK하이닉스 측은 "온디바이스(On-Device) AI 구현을 위한 데이터 고속 처리 시 발생하는 발열이 스마트폰 성능 저하의 주요 원인이 되고 있다"며, "이번 제품으로 고사양 플래그십(Flagship) 스마트폰의 발열 문제를 해결해 글로벌 고객사들로부터 높은 평가를 받고 있다"고 밝혔다.
최신 플래그십 스마트폰은 모바일 AP(중앙처리장치) 위에 D램을 적층하는 PoP(적층 패키지) 방식을 적용하고 있다. 이 구조는 한정된 공간을 효율적으로 활용하고 데이터 처리 속도를 향상시키는 장점을 제공한다. 하지만 모바일 AP에서 발생한 열이 D램 내부에 누적되면서 전체적인 스마트폰 성능 저하도 함께 야기한다.
SK하이닉스는 이 문제를 해결하기 위해 D램 패키지를 감싸는 핵심 소재인 EMC의 열전도 성능 향상에 주력했다. 기존에 EMC의 소재로 사용하던 실리카(Silica)에 알루미나(Alumina)를 혼합 적용한 신소재인 High-K EMC를 개발한 것.
이를 통해 열전도도를 기존 대비 3.5배 수준으로 대폭 향상시켰으며, 그 결과 열이 수직으로 이동하는 경로의 열 저항을 47% 개선하는 성과를 거뒀다.
SK하이닉스 관계자는 "향상된 방열 성능은 스마트폰의 성능 개선과 소비전력 절감을 통해 배터리 지속시간, 제품 수명 연장에도 기여한다"며 "이러한 효과로 모바일 업계에서 이 제품에 대한 관심과 수요가 높아질 것으로 전망된다"는 입장을 전했다.
- SK하이닉스, 321단 QLC 낸드 양산 개시
- 곽노정 SK하이닉스 사장 "AI 시대, 세상 바꿀 기술 위해 나아갈 것"
- SK하이닉스, 생성형 AI 플랫폼 'GaiA' 로드맵 공개
- 'SK하이닉스', 대학생 가장 일하고 싶은 기업 22년 만에 1위
- 모두싸인, 업스테이지와 계약 특화 AI 모델 및 솔루션 기술 협력
- 올해 들어 3번째...삼성전자, 갤럭시 이벤트 초대장 발송
- SK하이닉스, 메모리 업계 최초 'High NA EUV' 도입
- "성과금만 1억원" SK하이닉스, 임금협상 타결…역대 최고 찬성률
- SK하이닉스, 모바일용 낸드 설루션 제품 'ZUFS 4.1' 공급
- SK하이닉스, 추석 앞두고 협력사 거래대금 2655억원 조기 지급
